Die Siltronic AG, einer der weltweit führenden Hersteller von Siliziumwafern, hat mit der Europäischen Investitionsbank ein Darlehen über 200 Millionen EUR zur Förderung der Entwicklung der nächsten Generation von Siliziumwafern abgeschlossen.
Die Mittel fließen in die Erforschung und Entwicklung der nächsten Generation von Reinstsiliziumwafern und Siliziumstäben sowie die Modernisierung der Waferproduktion im sächsischen Freiberg. Siliziumwafer sind die Grundlage der modernen Halbleiterindustrie und die Basis für Chips in allen Anwendungsbereichen der Elektronik, von Computern und Smartphones über Elektroautos bis hin zu Windkraftanlagen.
Hengeler Mueller hat die Siltronic AG umfassend bei der Finanzierungstransaktion beraten. Tätig waren die Partnerin Dr. Daniela Böning sowie Associate Jennifer Ellen Klein (beide Finanzierung, Frankfurt). Inhouse war für Siltronic Senior Legal Counsel Marion Schuster-Opitsch tätig.
Mit der Transaktion stand Hengeler Mueller der Siltronic AG bereits zum wiederholten Mal in diesem Jahr bei ihren Finanzierungsaktivitäten beratend zur Seite. So hat das Team Siltronic im Sommer bei der Debüt-Emission eines Schuldscheins mit ESG-Komponente über 300 Millionen EUR und zuvor bei einer weiteren Kooperation für den Aufbau einer neuen Produktionsstätte in Singapur mit dem Economic Development Board (EDB) von Singapur beraten.
